Čína uvádí první standard generátoru ozónu v polovodičové kvalitě, čímž posiluje průmysl domácích polovodičových zařízení

Čínský polovodičový průmysl dosáhl významného milníku oficiálním vydáním a implementací vůbec prvního skupinového standardu v zemi pro generátory ozonu polovodičové kvality. "Technické požadavky na generátory polovodičového ozónu" (T/CIET 1946-2025), vydané 9. prosince 2025, vedla společnost Qingdao Guolin Semiconductor Technology Co., Ltd. ve spolupráci se 17 předními podniky v celém dodavatelském řetězci polovodičů.

Tato přelomová norma vyplňuje kritickou mezeru v domácích technických specifikacích pro ozonová zařízení používaná při výrobě polovodičových a panelových displejů. Generátory ozonu hrají nepostradatelnou roli v klíčových polovodičových procesech včetně nanášení tenkých vrstev, čištění waferů a odstraňování fotorezistu, kde jejich technický výkon a spolehlivost přímo ovlivňují výtěžnost výroby čipů.

Technologie Ozone Machine se stala zásadní v moderních továrnách na výrobu polovodičů, kde požadavky na čistotu povrchu dosáhly přesnosti na atomové úrovni. Nedávné laboratorní testy prokázaly, že pokročilé systémy čištění UV ozónem mohou snížit organické kontaminanty na křemíkových waferech z 50 nm na pouhých 0,5 nm a dosáhnout tak 100násobného zlepšení účinnosti čištění ve srovnání s tradičními metodami. Tato úroveň přesnosti je kritická, protože průmysl postupuje směrem k 5nm a 3nm procesním uzlům.

Průmyslové generátory ozonu určené pro polovodičové aplikace využívají metody koronového výboje nebo ultrafialové záření k vytvoření přesných koncentrací ozonu přizpůsobených specifickým výrobním požadavkům. Na rozdíl od konvenčních procesů mokrého čištění, které jsou založeny na kyselině sírové a peroxidu vodíku – které mohou zanechávat chemické zbytky a produkovat značné množství odpadních vod – čištění na bázi ozonu nabízí suchou alternativu beze zbytků, která se po použití přirozeně rozkládá na kyslík.

Nově zavedený standard byl vyvinut na základě rozsáhlé spolupráce zahrnující klíčové průmyslové hráče včetně Beijing North Huachuang Microelectronics Equipment Co., HuaHai Qingke Co., Tuojing Semiconductor Equipment a Shengmei Semiconductor Equipment, mimo jiné. Tato široká průmyslová účast zajišťuje vědeckou přísnost normy, použitelnost a reprezentativnost v celém polovodičovém ekosystému.

Aplikace strojů na dezinfekci ozónem přesahují čištění plátků a zahrnují pokročilé oxidační procesy pro odstraňování organických kontaminantů ze zařízení a zařízení na výrobu polovodičů. Tato technologie účinně eliminuje zbytky fotorezistu, stopy organických rozpouštědel a molekulární nečistoty ve vzduchu, které mohou ohrozit výtěžnost čipů.

Snaha o standardizaci, která začala schválením projektu v březnu 2025 a skončila s konečným vydáním v prosinci 2025, stanoví komplexní technické specifikace a měřítka spolehlivosti pro zařízení na výrobu ozonu. To poskytuje výrobcům polovodičů jasná, kvantifikovatelná kritéria pro výběr zařízení a validaci procesu.

Průmysloví analytici předpokládají, že globální trh s generátory ozonu dosáhne do roku 2030 2,36 miliardy dolarů a poroste s CAGR 8,0 %, částečně díky rostoucím investicím do infrastruktury pro výrobu polovodičů a potřebě pokročilých čisticích řešení. Nový čínský standard umožňuje domácím výrobcům efektivněji konkurovat na tomto rozšiřujícím se trhu a zároveň podporovat širší národní iniciativu k posílení schopností domácích polovodičových zařízení.

Při pohledu do budoucna se očekává, že implementace této normy urychlí zavádění generátorů ozonu vyráběných v tuzemsku v čínských továrnách na výrobu polovodičů, čímž se sníží závislost na dovážených zařízeních a zároveň zajistí konzistentní kvalita a výkon. Vzhledem k tomu, že polovodičový průmysl pokračuje ve svém rychlém rozmachu, bude standardizovaná ozonová technologie hrát stále důležitější roli při vytváření přesných výrobních prostředí bez kontaminace, která jsou nezbytná pro výrobu čipů nové generace.